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現像液精密ろ過システム

環境処理システム / CHENGTAI

現像液精密ろ過システム

PCB フォトレジスト現像液から残留物とコロイド粒子を除去する 2 段階の濾過プロセス。

構成、設置、プロジェクト固有の仕様については当社のエンジニアと話し合ってください。

設備の概要

タスク向けに設計されています。

  • 二段循環・精製
  • 自動第一段階残留物スクレイピング
  • 樹脂およびコロイド粒子の除去
  • メインタンクのタイミングと生産ライン制御のリンク
  • 安定したソリューション活動と長期にわたるソリューションの使用をサポート

プロセスフィット

それが機能する場所。

PCB フォトレジスト現像液の濾過と再利用の評価。液体の化学的性質、流量、材料の適合性をエンジニアリングで確認します。

プロセス入力、生産上の制約、統合要件を共有します。お見積り前に適切な機器構成を検討させていただきます。

技術概要

仕様と構成。

仕様書を請求する→
プロセスメディア
ドライフィルムおよびウェットフィルムの現像プロセス
一次濾過
1μm
二次濾過
30nm
クリーニング
自動第一段階残留物スクレイピング
制御
カスタムタイミングと生産ライン連動動作

最終仕様と許容基準は、選択した構成について合意されます。

濾過前後のフォトレジスト現像液サンプル

アプリケーションのレビュー

溶液化学から始めます。

濾過の結果は、フォトレジスト現像液の組成、プロセス負荷、および操作条件によって異なります。サンプル評価は、適切な構成を定義するのに役立ちます。

探索を続けます。

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次のステップをエンジニアリングしましょう

まずは要件から始めましょう。
より良い生産ラインを構築します。

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