Umweltsysteme / CHENGTAI

Feinfiltersystem für Entwicklerlösung

Ein zweistufiger Filterprozess, der Rückstände und kolloidale Partikel aus der PCB-Fotoresist-Entwicklungslösung entfernt.

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Besprechen Sie Konfiguration, Installation und projektspezifische Spezifikationen mit unseren Ingenieuren.

DIE AUSRÜSTUNG IM ÜBERBLICK

Für die Aufgabe konzipiert.

Zweistufige Zirkulation und Reinigung
Automatisches Abstreifen der Rückstände in der ersten Stufe
Entfernung von Harzen und kolloidalen Partikeln
Verknüpfte Haupttank-Zeitsteuerung und Produktionsliniensteuerung
Unterstützt stabile Lösungsaktivität und erweiterte Lösungsnutzung

PROZESSFIT

Wo es funktioniert.

Filtrations- und Wiederverwendungsbewertung für PCB-Fotoresist-Entwicklungslösung. Bestätigen Sie die Flüssigkeitschemie, Durchflussrate und Materialkompatibilität mit der Technik.

Teilen Sie Ihre Prozesseingaben, Produktionsbeschränkungen und Integrationsanforderungen mit. Wir prüfen vor der Angebotserstellung die entsprechende Gerätekonfiguration.

TECHNISCHER ÜBERBLICK

Spezifikationen und Konfiguration.

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Prozessmedien: Trockenfilm- und Nassfilm-Entwicklungsverfahren
Primärfiltration: 1 μm
Sekundärfiltration: 30 nm
Reinigung: Automatisches Abstreifen der Rückstände in der ersten Stufe
Kontrolle: Individuelle Zeiteinteilung und produktionsliniengebundener Betrieb

Für Ihre ausgewählte Konfiguration werden endgültige Spezifikationen und Abnahmekriterien vereinbart.

Proben von Photoresist-Entwicklungslösungen vor und nach der Filtration

ANWENDUNGSÜBERPRÜFUNG

Beginnen Sie mit der Lösungschemie.

Die Ergebnisse der Filtration hängen von der Zusammensetzung der Photoresist-Entwicklungslösung, der Prozessbelastung und den Betriebsbedingungen ab. Eine Beispielauswertung hilft bei der Festlegung der richtigen Konfiguration.

Erkunden Sie weiter.

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