Sistemas ambientais / CHENGTAI

Sistema de filtragem fina de solução reveladora

Um processo de filtração em dois estágios que remove resíduos e partículas coloidais da solução de revelação fotorresistente de PCB.

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Discuta configuração, instalação e especificações específicas do projeto com nossos engenheiros.

O EQUIPAMENTO EM RESUMO

Projetado para a tarefa.

Circulação e purificação em dois estágios
Raspagem automática de resíduos na primeira fase
Remoção de resina e partículas coloidais
Sincronização do tanque principal vinculada e controle da linha de produção
Oferece suporte à atividade estável da solução e ao uso estendido da solução

AJUSTE DO PROCESSO

Onde funciona.

Avaliação de filtragem e reutilização para solução de desenvolvimento fotorresistente de PCB. Confirme a química líquida, a vazão e a compatibilidade do material com a engenharia.

Compartilhe suas entradas de processo, restrições de produção e requisitos de integração. Analisaremos a configuração apropriada do equipamento antes da cotação.

VISÃO GERAL TÉCNICA

Especificações e configuração.

Solicite uma folha de especificações →

Mídia de processo: Processos de desenvolvimento de filme seco e filme úmido
Filtragem primária: 1 μm
Filtragem secundária: 30nm
Limpeza: Raspagem automática de resíduos na primeira fase
Controle: Tempo personalizado e operação vinculada à linha de produção

As especificações finais e os critérios de aceitação são acordados para a configuração selecionada.

amostras de solução em desenvolvimento fotorresistente antes e depois da filtração

REVISÃO DA APLICAÇÃO

Comece com a solução química.

Os resultados da filtração dependem da composição da solução de revelação fotorresistente, da carga do processo e das condições operacionais. Uma avaliação de amostra ajuda a definir a configuração correta.

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