设备一览
专为任务而设计。
- 两级循环净化
- 自动第一级刮渣
- 去除树脂和胶体颗粒
- 联动主罐定时和生产线控制
- 支持稳定的溶液活性和延长的溶液使用
工艺配合
它在哪里起作用。
PCB光刻胶显影液过滤及回用评价确认液体化学、流量和材料与工程的兼容性。
分享您的流程输入、生产限制和集成要求。我们将在报价前审查适当的设备配置。
技术概述
规格和配置。
- 工艺介质
- 干膜和湿膜显影工艺
- 初级过滤
- 1微米
- 二次过滤
- 30纳米
- 清洁
- 自动第一级刮渣
- 控制
- 自定义计时与产线联动操作
最终规格和验收标准已针对您所选的配置达成一致。
申请审核
从溶液化学开始。
过滤结果取决于光刻胶显影液的成分、工艺负载和操作条件。示例评估有助于定义正确的配置。
