设备系列
光刻胶显影液过滤、回用评价及工业循环水处理。从您的工艺条件开始。
环保系统
两级过滤过程,去除 PCB 光刻胶显影液中的残留物和胶体颗粒。
用于工业循环水系统的电化学处理,具有自动清洁和残留物去除功能。
流程和资源要求
不同的工艺流程需要不同的设备。分享液体成分、操作条件和所需的回收结果,以便我们审查项目范围。
在审查您的工艺要求后确认设备选择和供应范围。
让我们设计您的下一步